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元器件知識-雙極型功率晶體管-KIA MOS管

信息來源:本站 日期:2021-11-10 

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元器件知識-雙極型功率晶體管-KIA MOS管


雙極型功率晶體管

雙極型功率晶體管(bipolar power transistor)最普及的一種功率晶體管,通常簡稱功率晶體管。其中大容量型又稱巨型晶體管,簡稱GTR。雙極型功率晶體管一般為功率集成器件,內含數十至數百個晶體管單元。


雙極型功率晶體管


如圖是功率晶體管的符號,其上e、b、c分別代表發射極、基極和集電極。按半導體的類型,器件被分成NPN型和PNP型兩種,硅功率晶體管多為前者。


如圖2是普通NPN型器件局部結構的剖面。圖中1為發射區,2為基區,3為集電區,4為發射結,5為集電結。


雙極型功率晶體管


圖3是其工作原理(對于PNP型器件,則需要將兩組電源極性反接),其中基極加0。6V左右的正向偏壓,集電極加高得多的反向偏壓(數十至數百伏)。


發射結通過的電流,是由發射區注入到基區的電子形成的,這些電子的小部分在基區與空穴復合成為基極電流Ib,其余大部分均能擴散到集電結而被其電場收集到集電區,形成集電極電流Ic。


雙極型功率晶體管


輸出特性

圖4是與圖3相對應的器件的共發射極輸出特性,它反映了器件的基極控制作用及不同的Ib下,Ic與Vce之間的關系。從圖4中看出,特性曲線明顯分成3個區。


在線性區,Ic與Ib成比例并受其控制,器件具有放大作用(倍數β=Ic/Ib);在截止區,器件幾乎不導電;在飽和區,器件的飽和壓降僅在1~2V上下(因飽和區VCE太小,集電結電子收集效率很低,器件失去放大作用)。


雙極型功率晶體管


20世紀50~60年代,功率晶體管主要是鍺合金管。它制作簡單,但耐壓不高(幾十伏),開關頻率也較低(十幾千赫)。80年代的大功率高壓器件大都為硅平面管,用二次擴散法制得。


其中GTR的容量是所有功率晶體管中最大的,80年代中期已有600A/150V、400A/550V、50A/1000V等幾種。GTR的開關頻率上限大致為100千赫。


功率晶體管廣泛應用于各種中小型電力電子電路作開關使用。GTR可用在如變頻器、逆變器、斬波器等裝置的主回路上。


由于GTR無須換流回路,工作頻率也可比晶閘管至少高10倍,因此它能簡化線路,提高效率,在幾十千瓦的上述裝置中可以取代晶閘管。但GTR的過載能力較差,耐壓也不易提高,容量較小。


未采用復合晶體管結構時,GTR的放大倍數較低(10倍上下)。比起容量較低的功率場效應晶體管,GTR的開關頻率較低(采用復合結構時,頻率僅為1千赫左右)。所以,功率晶體管的應用受到一些限制。


自80年代中期以來,GTR正向大容量、復合管及模塊組件化等方向發展,將在幾百千瓦或更大容量的裝置中取代晶體管。




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